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用“韬定律”造国产芯片,算苗科技募资近20亿
全球半导体产业演进的叙事里,华为提出的“韬定律”,给出了创新性的中国方案:当晶体管尺寸逼近物理极限,仅靠“几何缩微”已难以为继,可采用混合键合、逻辑折叠等技术,大幅压缩信号时延,用“时间缩微”的理念推进算力密度的跨越式提升。
套刻精度与对准技术介绍
参考文章来源:学习那些事原文作者:小研同学光刻胶形貌关注的是图形本身的截面形状是否正常,而套刻精度(overlay accuracy)则关注不同层次图形之间的对准程度。随着技术节点推进,套刻精度的要求已经进入个位数纳米领域,成为光刻工艺中与分辨率同等重要的指标。